±«ÓãÖ±²¥

ECSE 485 IC Fabrication Laboratory (2 unités)

important

Nota : Ceci est la version 2017–2018 de l'annuaire électronique. Veuillez mettre à jour l'année dans la barre d'adresse de votre navigateur pour une version plus récente de cette page, ou .

Offered by: Génie électr. et informatique (Génie et l'architecture)

Vue d'ensemble

Génie électrique : Essential processes for silicon semiconductor device fabrication: etching, diffusion, photolithography. Fabrication of large area PN junctions, selective area PN junctions and MOSFETs. Design and fabrication of simple MOS circuits. Electrical characterization of devices and circuits.

Terms: Hiver 2018

Instructors: Shih, Ishiang; Ghamari, Pegah (Winter)

Back to top